簡(jiǎn)要描述:華測儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布??蓪?shí)現寬域均熱區,高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無(wú)氣氛污染。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系統可靠。華測高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測試儀器廠(chǎng)家
產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category詳細介紹
品牌 | HUACE/北京華測 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
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應用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子/電池,航空航天,電氣 |
高速加熱冷卻管式爐馬弗爐
高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無(wú)法實(shí)現溫度高的精度測量,加熱區域也存在不均勻的現象,華測儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布??蓪?shí)現寬域均熱區,高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無(wú)氣氛污染??稍诟哒婵?,高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比,紅外線(xiàn)反射爐節省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗中也可改寫(xiě)設定溫度值。從各方面講,都節省時(shí)間并提高實(shí)驗速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系統可靠。以提高試驗人員的工作效率,實(shí)現全溫度控制操作!
目電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻、高功率設備,將對電網(wǎng)造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過(guò)程中影響弱信號的采集,華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用新特殊參數分析技術(shù),實(shí)現了高達120MHz的高頻測量,從而滿(mǎn)足了很多半導體,功能材料和納米器件的測試需求.
高速升溫時(shí),配套的快速反應的紅外線(xiàn)反射爐控制裝置,本控制裝 營(yíng)采用可編程溫度控制器。高緊湊設計,響應速度愉。為了高速加熱設備采用PID溫度控制, 同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試價(jià)溫度。
主要用途:
主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實(shí)驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實(shí)驗、真空退火等。
華測高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測試儀器廠(chǎng)家
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