簡(jiǎn)要描述:華測-高溫快速爐測試儀器-高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,加熱區域也存在不均勻的現象
產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category詳細介紹
品牌 | HUACE/北京華測 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
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應用領(lǐng)域 | 綜合 |
產(chǎn)品介紹
華測-高溫快速爐可實(shí)現寬域均熱區,高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無(wú)氣氛污染??稍诟哒婵?,高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。
華測-高溫快速爐提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比,紅外線(xiàn)反射爐節省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,在試驗中也可改寫(xiě)設定溫度值。從各方面講,都節省時(shí)間并提高實(shí)驗速度。
同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系統an全可靠。以提高試驗人員的工作效率,實(shí)現溫度控制cao作!
設備優(yōu)勢
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統,增設氣體冷卻裝置,可實(shí)現快速冷卻。
溫度控制
過(guò)紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在溫度下可提供。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),cao作簡(jiǎn)單,使用石英玻璃制成。紅外線(xiàn)可傳送到加熱/冷卻室。
反射爐溫度控制裝置
高速升溫時(shí),配套的快速反應的紅外線(xiàn)反射爐控制裝置,本控制裝置采用可編程溫度控制器。高緊湊設計,響應速度愉。
為了高速加熱、設備采用PID溫度控制,同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度。
l 據設備上的溫度控制器輸入參數,您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數據。
l 自適應熱電偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型
l 大可設定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序。
l 30A、60A、120A內置了SCR電路,所以范圍很廣。
l 250mmW*80mmD*57mmH小巧尺寸
設備配置
公司簡(jiǎn)介
我們北京華測公司從儀器生產(chǎn)、an全防護、數據采集、通訊網(wǎng)絡(luò )實(shí)現到云管理系統為用戶(hù)提供有競爭力的系統級方案與服務(wù),幫助用戶(hù)在新材料研發(fā)與檢測獲得成功。
華測-高溫快速爐測試儀器
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