產(chǎn)品介紹

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目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無(wú)法實(shí)現溫度的測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐，是一種目前較為理想的真高空退火爐。

   它提高了加熱試驗能力.同電阻爐和其他爐相比，紅外線(xiàn)反射退火爐節省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗中也可改寫(xiě)設定溫度值。從各方面講，都節省時(shí)間并提高實(shí)驗速度。

    同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統可靠。以提高試驗人員的工作效率，實(shí)現全溫度控制操作！

反射爐溫度控制裝置

高速升溫時(shí)，配套的快速反應的高真空退火爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高設計，響應速度快。

可選配

干泵：抽速≥120L/min，極限真空度≤4pa，噪音小于52db；

全量程真空規：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10^-7Pa到1atm；為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度。根據設備上的溫度控制器輸入參數，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數據。自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型

至多可設定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序。

30A、60A、120A內置了SCR電路，所以范圍很廣。

華測儀器  之選