高真空退火爐的設備結構

設備結構：

1、反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時(shí)，配套的快速反應的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高設計，響應速度快。

2、可選配置：

（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）全量程真空規：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10^-7Pa到1atm;

（3）為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度；

（4）根據設備上的溫度控制器輸入參數，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數據；

（5）自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）大可設定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內置了 SCR電路，所以范圍很廣。

3、其他配置：

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